华尔街见闻 · 全球快讯· 葛冬瑾·· 3 小时前关注度30
华为半导体黄宇:韬定律最大挑战在于EDA工具
模型导读
10月15日,在2026湾芯展上,华为半导体EDA首席科学家黄宇表示,华为韬定律分器件层、链路层、芯片层、系统层四层,其中链路层是华为最大创新点。黄宇称,韬定律最大挑战在于EDA工具,同时工艺、工程和系统设计挑战也都存在。
来源:华尔街见闻 · 全球快讯 · wallstreetcn.com
10月15日,在2026湾芯展上,华为半导体EDA首席科学家黄宇表示,华为韬定律分器件层、链路层、芯片层、系统层四层,其中链路层是华为最大创新点。黄宇称,韬定律最大挑战在于EDA工具,同时工艺、工程和系统设计挑战也都存在。
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